美国限制全环绕栅极GAA：全环绕栅极GAA尖端芯片技术，先进芯片架构。GAA工
- 3
- 8
- ♥ 收藏
- A大中小
【问】美国限制全环绕栅极GAA：全环绕栅极GAA尖端芯片技术，先进芯片架构。
GAA工艺核心在于多次光刻、刻蚀、沉积:核心步骤通过原子层沉积（ALD）技术完成！!公司沉积清洗设备是否可以用在GAA工艺上？ 【答】国林科技：尊敬的投资者，您好。公司薄膜沉积和臭氧清洗设备可以应用于GAA工艺，目前半导体清洗方面的业务占公司主营业务收入比重较小。感谢您的关注。感谢您的关注。¶¶2024-11-28 11:30:11 §
GAA工艺核心在于多次光刻、刻蚀、沉积:核心步骤通过原子层沉积（ALD）技术完成！!公司沉积清洗设备是否可以用在GAA工艺上？ 【答】国林科技：尊敬的投资者，您好。公司薄膜沉积和臭氧清洗设备可以应用于GAA工艺，目前半导体清洗方面的业务占公司主营业务收入比重较小。感谢您的关注。感谢您的关注。¶¶2024-11-28 11:30:11 §
郑重声明：用户在财富号/股吧/博客等社区发表的所有信息（包括但不限于文字、视频、音频、数据及图表）仅代表个人观点，与本网站立场无关，不对您构成任何投资建议，据此操作风险自担。请勿相信代客理财、免费荐股和炒股培训等宣传内容，远离非法证券活动。请勿添加发言用户的手机号码、公众号、微博、微信及QQ等信息，谨防上当受骗！
