网传公司自主研发的ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先进的EUV（
【问】网传公司自主研发的ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先进的EUV（＜13.5nm）光刻胶产品近日已通过客户认证，可用于14～3nm光刻芯片生产，并成功取得
台积电、
中芯国际首批订单。是真的吗？ 【答】晶瑞股份：尊敬的投资者您好！公司已正式启动ArF高端光刻胶研发工作，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶，公司目前没有研发F2和EUV光刻胶的计划。感谢您对公司的关注与支持！¶¶2021-08-01 18:39:00 §
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