请问贵公司在负性光刻胶、高耐热性光刻胶的剥离、减少光刻胶使用量、光刻胶组合物及光
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【问】请问贵公司在负性光刻胶、高耐热性光刻胶的剥离、减少光刻胶使用量、光刻胶组合物及光刻工艺等研究进展如何？发明专利储备如何？是否给研究所供货了？ 【答】飞凯材料：您好，公司具有自主研发的光致抗蚀剂产品专利技术，目前公司生产、研发的光致抗蚀剂主要在面板及半导体光致抗蚀剂两个领域，下游客户多为面板及半导体行业的制造厂商。同时公司亦进一步加强核心自主技术的研发与产品创新，加大产品市场拓展力度。感谢您对公司的关注，谢谢！¶¶2024-11-11 15:19:39 §
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