ICP刻蚀设备快速放量，多品线研发持续推进布局产业发展

　　中微公司(688012)

　　事件

　　公司发布2022年半年报业绩：营业收入19.7亿元，同比增长47.3%；归母净利润4.67亿元，同比增长17.9%；扣非归母净利润4.41亿元，同比增长615.3%。

　　投资要点

　　人效管理持续提升，盈利能力不断增强

　　受益于设备市场发展以及公司产品竞争优势,公司不惧疫情扰动，2022年上半年实现营业收入19.7亿元，同比增长47.3%。上半年公司毛利率45.3%，同比提升3pct；公司销售费用率8.72%，同比下滑2.28pct，其中本期职工薪酬增加0.22亿元，股付费用减少976万元；管理费用率5.1%,同比下滑2.8pct，其中股份支付费用减少0.13亿元，职工薪酬增加981万元；公司2022年上半年人均年化营收达350万元，公司人效持续提升。财务费用率-5.18%，同比减少4.67pct，主要系利息收入增加0.67亿元。2022年上半年归母净利润4.67亿元，同比增长17.9%；扣非归母净利润4.41亿元，同比增长615.3%，其中非经常性损益同比减少3.08亿元，包括计入非经损益的政府补助同比减少2.03亿元（上半年计入当期损益的政府补助0.1亿元）及股权投资缠绳的公允价值变动收益减少1.77亿元。公司上半年扣非净利率22.4%，同比增长17.8pct，盈利能力持续走强。公司2季度单季扣非归母净利润2.55亿元，扣非归母净利润率达到25%，同比提升18pct，环比Q1增长5.4pct，创单季度历史新高。

　　刻蚀设备毛利率达46.1%，ICP刻蚀设备快速放量

　　公司2022年上半年刻蚀设备收入13.0亿元，同比增长51.5%；其中CCP刻蚀设备收入8.86亿元，同比增长14.0%，ICP刻蚀设备收入4.13亿元，同比增长414%，处于快速放量阶段。刻蚀设备毛利率达46.1%，盈利能力进一步提升。

　　CCP刻蚀设备方面，上半年公司持续得到众多客户的批量订单，市场占有率不断提升，在部分客户市场占有率已进入前三位，在一些主要客户的生产线上已达到30%甚至更高的市场占有率。在先进逻辑电路方面，公司持续升级产品性能，CCP刻蚀设备成功取得5nm及以下逻辑电路客户的重复订单。在存储电路方面，公司CCP设备可应用于64层、128层及更高层数NAND的量产，随着3DNAND芯片制造厂产能的迅速爬升，该等产品的重复订单高速稳步增长。同时积极布局并拓展刻蚀设备在动态存储器的应用，随着更多工艺开发及验证通过，已经取得客户批量订单。

　　目前公司正根据存储器厂商的需求开发新一代能够覆盖200层以上极高深宽比的关键刻蚀应用以及其他关键刻蚀应用的刻蚀设备和工艺。

　　ICP刻蚀设备方面，公司刻蚀线宽均匀性已达到10.25纳米的水平，年销售额增速超100%，已经进入超15家客户的生产线进行100多个ICP刻蚀工艺的验证。上半年PrimoNanova系列顺利交付超40台反应腔，在客户端完成验证的应用数量也在持续增加，持续取得国际先进3DNAND客户批量订单，高输出率的PrimoTwin-star系列已经在国内领先客户生产线上完成认证，订单量持续增加，已进入更多客户端进行验证。

　　根据客户的技术发展需求，公司正在进行下一代产品的技术研发，以满足5nm以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和200层以上的3DNAND芯片等产品的刻蚀需求，并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发；用于5nm逻辑芯片的ICP刻蚀机已经完成在先进逻辑芯片生产厂家评估并实现销售；用于3nm逻辑芯片的ICP刻蚀机已经完成Alpha原型机设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估；用于7-5nmFinfet结构的逻辑芯片的ICP刻蚀机已经研制出样机并制造工程机在客户端验证。

　　公司8和12英寸深硅刻蚀设备PrimoTSV200E、PrimoTSV300E在先进系统封装、2.5维封装和微机电系统芯片生产线等成熟刻蚀市场继续获得重复订单，同时在3D芯片等新兴市场的刻蚀工艺上也得到验证。

　　此外，公司正在开发的用于逻辑器件大马士革刻蚀及用于极高深宽比应用的刻蚀机取得了很好的进展，将陆续进入市场。

　　MOCVD获得大批量订单，业绩增长确定性强

　　公司2022年上半年MOCVD设备收入2.41亿元，同比增长9.9%。MOCVD设备毛利率达35.4%，同比增长4.65pct，或由于高毛利率产品收入占比提升所致。

　　公司新开发的制造Miniled蓝光和绿光器件的MOCVD设备PrismoUnimax系列已经实现单腔41片4英寸外延芯片加工能力，发光波长的均匀性达到10.8纳米水平。在去年进入市场连续获得批量订单的基础上，今年上半年继续获得多家客户大批量订单，累计订单超180腔，考虑到交付周期，或有望在下半年及下一年持续带来业绩。

　　公司也正在开发用于氮化镓、碳化硅功率器件和制造Micro-LED的MOCVD专用设备，目前制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD设备已在客户芯片生产线上验证。

　　产品研发进展顺利，提前布局产业发展

　　公司自主研发EPI外延设备和LPCVD设备，公司所开发的钨沉积设备具有优秀的阶梯覆盖率和填充能力，能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用，以及64层、128层和200层以上3DNAND中的多个关键应用，目前已通过关键客户的工艺验证，并积极推进设备在客户产线进行量产验证。公司还在持续研发新的填充工艺方案，以满足更高深宽比接触孔及沟道电极的需求，接触孔用WCVD设备正在研究阶段。公司的原子层沉积设备的研发也在积极推进中，所开发设备能够满足先进存储器件和逻辑器件金属阻挡层的应用，以及先进逻辑器件中金属栅极的应用。EPI设备面向28nm及以下的逻辑、存储、功率器件等应用，目前研发进展顺利，已进入样机制造和调试阶段。随着研发和验证进程的持续推进，未来或有望成为新的业绩增长点。

　　新签订单持续高增，产能扩张夯实长期基础

　　公司2021年新签订单41.3亿元，同比增长90.5%；2022年上半年新增订单30.6亿元，同比增长61.8%，占2021年全年新签订单金额比例达74%，订单增长持续高增。公司2022年上半年存货24.9亿元，同比增长73.7%；合同负债15.9亿元，同比增长268%。

　　公司南昌生产及研发基地已经部分完工，部分生产洁净室于2022年7月投入试生产，上海临港约18万平方米生产研发基地已大部分封顶；上海临港滴水湖约10万平方米总部大楼在顺利建设中，预计未来厂房相比现在提升十倍以上，有望夯实长期发展基础。

　　平台化布局，外延式发展，打造设备龙头

　　公司平台化布局同时，外延式发展，参股PECVD设备领域拓荆科技、半导体检测设备领域上海睿励、光伏电池及平板显示屏用PECVD领域理想万里晖，以及镀膜和膜层改性设备领域SOLAYER，有望打开长期增长空间，巩固产业链协同效应，完善公司业务布局，持续打造半导体设备公司龙头。

　　盈利预测

　　预计公司2022-2024年收入分别为45.9/62.6/80.9亿元，归母净利润分别为12.4/16.0/19.3亿元，对应当前股价对应PE分别为71、55、46倍。给予“推荐”评级。

　　风险提示

　　半导体市场需求不及预期；下游晶圆制造产能扩充不及预期风险；零部件短缺风险；新设备研发进度不及预期风险等