热门:*ST长生吧 东方通信吧 乐视网吧
中芯国际吧
  • 最近访问:
发表于 2018-05-16 09:14:43 股吧Android版
日本新闻网站Nikkei Asian Review引述消息称,全球最大的芯片机器
日本新闻网站Nikkei Asian Review引述消息称,全球最大的芯片机器制造商、荷兰的阿斯麦(AMSL)证实,中国向荷兰订购一台最新型的使用EUV(极紫外线)技术的芯片制造机器光刻机,订货单位是中国的国企SMIC。这台机器价值1.2亿美元,与其去年净利润1.264亿美元大致相当。消息来源称,这一设备预计将于2019年年初交付。
EUV光刻机,7nm之后的救星
随着工艺的推进,传统的193nm浸没式光刻机器的瓶颈日益凸显,业界开始向EUV光源寻求帮助,这就推动了晶圆厂和光刻机供应商的EUV光刻机的进展,ASML作为全球唯一的EUV光刻机供应商,在数次延迟之后,终于在最近两年取得了进展。三星也在最新的7nm工艺上,使用了EUV光刻机。
所谓EUV,是指波长为13.5nm的光。相比于现在主流光刻机用的193nm光源,新的EUV光源能给硅片刻下更小的沟道,从而能实现在芯片上集成更多的晶体管,进而提高芯片性能,继续延续摩尔定律。不过在之前推进EUV光刻机的过程中,碰到各种各种各样的问题,EUV光刻机商用的时间也一拖再拖,业界在EUV的研发投入保守估计也超过了200亿美金,发光源功率是造成EUV光刻机迟迟不能商用的最主要原因。
在EUV光刻机工作过程中,需要电源将等离子体转换成13.5nm波长的光线,之后再经过镜子的几重反射,再打落到晶圆上。但是之前的电源并不能给EUV提供足够的功率,进而满足经济可行性。这就首先要了解对EUV光刻机的要求:简单来说,引入EUV光刻机的工作目标,就是把原来传统光刻的双层pattering简化成一层EUV完成,进而降低光罩的层数,降低生产复杂度。而为了达到现有的传统光刻机250到270WPH的生产效率,那么来到EUV光刻机,那么至少需要125WPH的效率,才能达到COO(cost of ownership)和OEE(overall equipment efficiency),这就对光源提出250瓦的要求。但直到2012年,EUV光刻机的唯一供应商ASML只是实现了25瓦的光源
为了加速光源的发展,他们在2012年斥资25亿美元收购了世界领先的准分子激光源提供商Cymer。从全球领先的专利查询平台智慧芽上了解到, Cymer是一家专注于激光、X射线及深紫外光源的企业。收购Cymer,让ASML直接从源头上获得了其发展中至关重要的光刻机光源技术。进而加速了EUV光刻机的发
中芯前进路上的必然选择
作为国内最先进的晶圆代工厂,中芯国际的制程工艺的落后一直被国内所诟病,但在引入了梁孟松之后,中芯国际的工艺有了突飞猛进的进展。在日前举办的2018年Q1法说会上,中芯国际联席CEO梁孟松透露,中芯国际将在2018年下半年量产28nm HKC+工艺,2019年上半年开始试产14nm FinFET工艺。虽然这个工艺相对于三星、台积电、格芯和英特尔都稍显落后,但绝对是国产的一大突破。
在未来,中芯国际必然会继续往10nm之后的工艺探索,为此尽早引入EUV光刻机,并在上面做研究,是中芯国际必经之路。如果这次新闻真的熟识,对于国产晶圆厂的未来,我们可以抱有更乐观的信心。
发表于 2018-05-16 09:20:10
如果这都不算利好!拿别的话题都是流氓扯淡!外资热炒落后技术的华虹,请随便!这是7nm的机器。说明14nm早已经是囊中之物了
发表于 2018-05-16 09:21:49
老铁!握个手吧!待股价高飞时,建议本吧老铁一起吃个饭
发表于 2018-05-16 09:27:09
梁大师的加盟让中芯的先进制程研发有了长足的进步。请注意28HK已不再是重点。
发表于 2018-05-16 09:40:23
不错,技术突破在即。
发表于 2018-05-16 09:41:48
坚决看好中芯国际,老外是手里没筹码。
发表于 2018-05-16 14:25:44
荷媒说,对于年营业额达到90亿欧元的阿斯麦公司来说,来自中国的订单占的分量很小,但是,这显示了一个趋势,中国要在芯片市场上也要扮演一个角色,不再依赖外来产品,相信中国会订购更多来自阿斯麦的新型光刻机。
极紫外线光刻是最新一代的技术。在网上,有关于基于瓦森纳协议(Verdrag van Wassenaar),荷兰不能出售光刻机给中国的传言。但是,阿斯麦说,出售光刻机给中国,并没有违反瓦森纳协议的精神。
发表于 2018-05-31 09:00:40
连续三日入货,这是给大家机会!!
发表于 2018-05-31 18:04:32
走吧
我一定坚持到中芯量产7nm。
发表于 2018-06-04 17:38:23
中芯赌上1.2亿美元抢下最先进光刻机!明年先挑战14/10纳米二连发,可望缩短与一线厂商差距至1.5代以内,身为中国半导体“国家队”的中芯国际,在前台积电、三星首席技术官梁孟松出任联席 CEO 后,提出 2019 年要量产 14 纳米 FinFET 的时程表,然供应链透露,10 纳米也计划力拼在同年推出,以此来看,看似低调的中芯,其实早已开始密谋规划在 2019 年连续发射 14 / 10 纳米两枚高端技术的巨型飞弹,要把与台积电、三星之间的工艺距离缩短至 1~1.5 个世代,届时,禁锢多年的国内高端技术将全面破茧而出。
作者:您目前是匿名发表   登录 | 5秒注册 作者:,欢迎留言 退出发表新主题
提示:用户在社区发表的所有资料、言论等仅代表个人观点,与本网站立场无关,不对您构成任何投资建议。用户应基于自己的独立判断,自行决定证券投资并承担相应风险。《跟帖评论自律管理承诺书》

扫一扫下载APP

扫一扫下载APP
信息网络传播视听节目许可证:0908328号 经营证券期货业务许可证编号:913101046312860336 违法和不良信息举报:021-34289898 举报邮箱:jubao@eastmoney.com
沪ICP证:沪B2-20070217 网站备案号:沪ICP备05006054号-11 沪公网安备 31010402000120号 版权所有:东方财富网 意见与建议:021-54509966/021-24099099