早上挑的超低价激光设备刻光机概念股正业科技涨停

光刻机(Mask Aligner)　又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。

中国目前激光技术是世界第一,只是部分激光部件还欠缺,如如做芯片的激光刻光机头我们还落后一些!

激光武器(英文:Laser Weapon)，是用高能的激光对远距离的目标进行精确射击或用于防御导弹等的武器，分为战术激光武器(THEL)与战略激光武器。具有快速、灵活、精确和抗电磁干扰等优异性能，在光电对抗、防空和战略防御中可发挥独特作用。

中国研制成功的新一代激光武器是国际上最先进的激光武器之一，可有效对付频频闯入中国领空侦察的“曙光女神”号超高速战略侦察机；中国的电子干扰机，能使F－117隐形飞机的激光制导、红外导弹完全失灵。中国的超强功率的固态激光器是世界一流，用它发射的激光束可在3千公里的距离获得每平方厘米35K焦耳能量密度，此能量密度比攻击导弹所必需的破坏阈高出近1个数量级以上。以此粗略推算，中国的攻击激光雷达有效杀伤力超过3万公里。

　　中国的攻击激光雷达包含着世界最尖端的5大核心技术：

　　1.激光材料研究的突破

　　2.激光辐射材料物理机理及成像图谱研究的突破

　　3.一次性快速跟踪定位控制技术的突破

　　4.高密度能量可逆转换载体材料的突破

　　5.激光成像技术的突破