在半导体制造中，光刻胶是支撑产业链的关键材料，在半导体行业中微细图形的加工过程中发挥作用。随着近些年来芯片的精细化程度越来越高，光刻胶的使用率也得到了极大的提高。

然而，在国际博弈中，光刻胶也是我国半导体产业最大软肋之一，目前半导体光刻胶国产化率不足5%。但随着国内晶圆厂产能扩大以及国家大基金二期的扶持，光刻胶国产化进程提速并迎发展契机，相关上市公司获众多机构青睐。

开辟光刻胶产业链国产化之路

光刻胶属于半导体八大核心材料之一，据全球半导体行业协会数据，光刻胶在半导体材料价值中占比近6%，光刻辅助试剂占比7.4%，二者共占13.4%。是继硅片和电子气体之外的第三大半导体材料。

光刻胶是半导体工艺中光刻时用到的一种特殊液体，下图为光刻胶产业链解析图：

竞争关键词：

1.技术门槛高；光刻胶是一种经过严格设计的复杂、精密的配方产品。高端光刻胶对于产品的分辨率、对比度、敏感度等要求非常高。光刻胶的质量和性能是影响半导体产品性能、产品率、可靠性的关键因素。

2.市场集中度高；由于产品用量小、对品质要求高，而光刻胶本身的下游应用行业又非常少，只有三种：PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶，而且下游的采购商全部属于大型企业，从而使得业内只有几家公司能生存。

3.客户壁垒高；光刻胶和芯片一样，产品更新换代快，厂商出于保密的考虑，通常都会和上游的材料供应商进行保密合作，从而使得客户转换的难度增加，行业的客户壁垒极高。

全球前五大光刻胶厂商中：共有4家日本公司，日本JSR、东京应化、信越化学、富士电子共占市场份额高达72%，美国的罗门哈斯占15%，全球五大厂商垄断了市场87%的份额，而日本更是巨头聚集地。

目前国内的企业依然以PCB光刻胶为主，据产业信息网的数据，目前国内生产的光刻胶94%都用于PCB，而真正技术难度最高的半导体光刻胶只占到2%。

很多企业如：东方材料、北京力拓达、飞凯材料、鼎材科技等都是仅仅只能生产PCB光刻胶，国内整体的技术水平距离美、日等巨头企业还有相当远的距离。

傍上国家技术研发 行业龙头寻求突破

国际先进技术水平已经可以量产第五代极紫外光刻机用光刻胶，而我国在这一领域尚处在实验室阶段，12寸晶圆制造所用ArF光刻胶尚处在研发阶段，国内仅可小批量供应8英寸晶圆所用KrF光刻胶，通过中芯国际验证。因此，在国家大基金二期扶持产业发展时，半导体材料领域的光刻胶有望获得重点关注。

根据科技部 02 专项资料，苏州瑞红承接国家重大科技项目 02 专项“I 线光刻胶产品开发及产业化”，率先在全国范围内实现 I 线光刻胶的量产，目前正胶产能 100 吨/年、厚膜光刻胶产能 20 吨/年，248nm（KrF）光刻胶进入中试阶段；北京科华可实现 I 线光刻胶产能500 吨/年、248nm（KrF）光刻胶产能 10 吨/年，其参与的国家科技重大专项极紫外（EUV）光刻胶项目已通过验收；南大光电拟投资 6.56 亿元，3 年建成年产 25 吨 193nm（ArF 干式和浸没式）光刻胶生产线，该启动项目已获得国家 02 专项正式立项。

附上国内光刻胶领域上市公司名单：

1、南大光电：

南大光电持有北京科华微电子31.39%的股权，并直接投资6.55亿元（其中国拨资金1.93亿元、地方配套资金1.97亿元），拟用3年时间建成年产 25 吨 193nm（ArF 干式和浸没式）光刻胶项目。另外，其研发团队阵容目前也是国内屈指可数的一线团队。

2、晶瑞股份：

2018年年报中，公司的主营业务收入主要来自超净高纯试剂、锂电池粘合剂，其次为光刻胶、功能性材料等产品的销售收入，2018年光刻胶贡献收入84.2亿元，占比仅为10.4%。光刻胶产品由公司的子公司苏州瑞红生产，苏州瑞红规模生产光刻胶20多年，拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线，是国内最早规模量产光刻胶的企业之一。苏州瑞红承担并完成了国家02重大专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25~0.13m的技术要求，建成了中试示范线。

3、强力新材：

公司从事半导体KrF光刻胶用光酸、光酸中间体以及聚合物用单体的生产及销售，光酸中间体已商业化量产，光酸及单体已向主要KrF光刻胶企业认证销售。最新的公司互动表示，目前公司主要产品为光刻胶专用化学品，分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。公司的产品按照应用领域分类，主要有印制电路板（PCB）光刻胶专用化学品（光引发剂和树脂）、液晶显示器（LCD）光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂及其他用途光引发剂（非光刻胶领域使用）等。

4、容大感光：

公司1.8亿收购高仕电研，标的生产的PCB油墨产品主要是感光阻焊白油；公司LCD、TP用光刻胶，LED用正性光刻胶及life-off光刻胶，I/G线IC用光刻胶等产品处于国内领先地位。

5、上海新阳：

公司主营业务产品为引脚线表面处理化学品、晶圆镀铜、清洗化学品晶圆划片刀，公司在半导体传统封装领域已经成为国内市场的主流供应商。光刻胶领域，公司拥有193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。ARF193nm光刻胶是芯片制造进入90nm铜互联制程后最重要的主流光刻胶产品，一直是国内空白。研发此款光刻胶意在填补国内空白，实现芯片制造在关键工艺技术和材料技术的自主可控。公司表示，经过近三年的研发，关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。

6、飞凯材料：

公司自主研发用于 PCB 制造上的 UV 固化的阻焊油墨已小批量销售，用于 TFT 平板显示屏电路制作用光刻胶尚处于研发阶段。

7、安集科技：

公司产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂，主要应用于集成电路制造和先进封装领域。公司光刻胶去除剂包括集成电路制造用、晶圆级封装用、LED/OLED用等系列产品，用于图形化工艺光刻胶残留物去除的高端湿化学品，通过将半导体晶片浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗半导体晶片，去除半导体晶片上的光刻胶残留物。公司主要收入来源为化学机械抛光液，但2018年贡献2.05亿元营收（占比为82.78%），较17年的2.08亿元有轻微下滑；光刻胶去除剂业务快速发展，16年仅贡献1942万元，18年达到4205万元，两年实现翻倍。

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（来源：和信证券投顾的财富号 2020-05-25 15:20） [点击查看原文]