子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆
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【问】子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、光刻机、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。是否属实？ 【答】国林科技：尊敬的投资者，您好。类似的问题已回复，请您参考相关回复和公司公开信息。感谢您的关注。¶¶2024-10-28 15:32:48 §
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