指通过紫外光、准分子激光 、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料 。其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。根据在显影过程中曝光区域的去除或保留，分为正像光刻胶和负像光刻胶。随着分辨率越来越高，光刻胶曝光波长不断缩短，由紫外宽谱向 G 线(436nm)→I 线(365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)→F2(157nm)→极紫外光 EUV 的方向转移。


我国光刻胶生产基本上被外资把控，并且集中在低端市场。据中国产业信息数据，2015 年我国光刻胶产量为 9.75 万吨，其中中低端产品 PCB 光刻胶产值占比为 94.4%，而 LCD 和半导体用光刻胶产值占比分别仅为 2.7%和 1.6%，半导体光刻胶严重依赖进口。

另外，2015 年我国光刻胶前五大公司分别台湾长兴化学、日立化成、日本旭化成、美国杜邦及台湾长春化工，均是外资或合资企业，上述五大企业市场份额达到 89.7%，内资企业市场份额不足 10%。光刻胶主要上市公司有晶瑞股份、飞凯材料，强力新材，上海新阳。

1）晶瑞股份：主要生产四大类微电子化学品,应用到五大下游行业:主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池 粘结剂四大类微电子化学品,广泛应用于半导体、光伏 太阳能电池、LED、平板显示和锂电池等五大新兴行业,具体应用到下游电子信息 产品的清洗、光刻、显影、蚀刻、去膜、浆料制备等工艺环节。目前光刻胶、超净高纯试剂具有40000吨产能