【问】智能纳米压印光刻系统FlexAligner。可实现在5nm～50微米尺度范围内的微纳结构或图形的高保真复制，没有光学分辨率制约。NIL为光学功能薄膜、微透镜阵列、抗眩光器件、光子芯片以及存储芯片研发与制备，提供高效、高保真的复制手段。
请问贵公司是否能完全自主可控制造智能纳米压印光刻系统FlexAligner，是否可以用与制造半导体芯片，与佳能纳米压印有何差距？ 【答】苏大维格：您好，感谢您的关注。公司纳米压印光刻相关技术与应用情况请关注公司定期报告等相关公告，以公司公告内容为准。¶¶2024-12-31 11:45:11 §